新品上市 磁控離子濺射儀

磁控離子濺射儀

產品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發研制成高科技產品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導電性和導熱性。磁控離子濺射儀為全閉環真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監控運行狀態，保證儀器安全穩定運行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應，高性能的平面磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現代分析實驗要求。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等。

應用領域：

光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃；

微電子領域：用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發揮著重要作用；

機械加工行業：表面功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術可有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性，從而提高涂層產品的使用壽命。

產品優勢：

1、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調整?設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜5%；無需按“實驗"鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥"。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設定即可；

l參數改變自動調整?濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統自動計算疊加，無需終止濺射過程；

l工作完成自動放氣；

l樣品臺高度調節1秒完成；

l濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。

2、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠

l真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；

l濺射電流高于50mA，停止濺射過程；

l真空泵工作時，系統無法進行放氣操作；