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    基礎信息Product information
    產(chǎn)品名稱:

    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

    產(chǎn)品型號:Huace800G

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

    所在地:北京市

    更新日期:2024-10-25

    產(chǎn)品簡介:

    高真空退火爐可實現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

    產(chǎn)品特性Product characteristics
    品牌華測

    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹:

     華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐

     它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)溫度控制操作!


    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器原理:

     原理為加熱絲或桂碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。

     高真空退火爐的反射鏡是具有精度的曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

    設備優(yōu)勢:

    高速加熱與冷卻方式

    高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。

    溫度高的精度控制

    過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

    不同環(huán)境下的加熱與冷卻

    加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

    設備結(jié)構:

    1、反射爐溫度控制裝置:

    高速升溫時,配套的快速反應的控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計,響應速度快。

    2、可選配置:

    1干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

    2全量程真空規(guī):刀口法蘭接口,真空測量范圍5X10-7Pa1atm;

    3為了高速加熱、設備采用PID溫度控制,同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度

    4根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)

    5自適應熱電偶包括JISKJTENRSB以及LUW

    6大可設定32個程序、256個步驟的程序

    (7)30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路,所以范圍很廣。

    3、其他配置:

    序號

    項目

    數(shù)量

    品牌

    備注

    1

    爐體

    1

    華測

    大溫度1200℃

    2

    加熱源

    1

    GE


    3

    溫度控制器

    1

    華測


    4

    電熱偶

    1

    omega


    5

    溫控表

    1

    歐姆龍


    6

    穩(wěn)壓電源

    1

    華測

    可定制

    7

    制冷水機

    1

    同飛

    制冷功率8KW

    8

    分子泵

    1

    萊寶

    CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa

    儀器試樣試驗:

    更多應用:

    樣品腔內(nèi)徑≥30mm;      退火爐外徑:≤100mm

    1、電子材料

    半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

    熱源薄膜形成

    激活離子注入后

    硅化物的形成

    2、陶瓷與無機材料

    陶瓷基板退火爐

    玻璃基板退火爐。

    3、鋼鐵和金屬材料

    薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

    爐焊接模擬

    高真空熱處理(1000°c以下)

    大氣氣體熔化過程

    壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

    4、復合材料

    耐熱性評價爐

    無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

    5、其他

    高溫拉伸壓縮試驗爐

    分段分區(qū)控制爐

    溫度梯度爐

    爐氣分析

    超導陶瓷退火爐





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