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    基礎(chǔ)信息Product information
    產(chǎn)品名稱:

    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

    產(chǎn)品型號(hào):Huace1200G

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

    所在地:北京市

    更新日期:2023-12-19

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐,。

    產(chǎn)品特性Product characteristics
    品牌華測(cè)

    儀器名稱:高真空退火爐

    儀器型號(hào):Huace1200G

    儀器介紹:

       華測(cè)儀器開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐

       它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰ΑM娮锠t和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!


    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備原理:

    1、輻射加熱

    紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

    2、紅外線燈

    紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

    3、反射光

    反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。



    高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備特點(diǎn)

    • 高速加熱與冷卻方式

    高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

    • 溫度高的精度控制

    通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

    • 清潔加熱

    反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

    • 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

    加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

    設(shè)備結(jié)構(gòu):

    序號(hào)

    項(xiàng)目

    數(shù)量

    品牌

    備注

    1

    爐體

    1

    華測(cè)

    大溫度1200℃

    2

    加熱源

    1

    GE


    3

    溫度控制器

    1

    華測(cè)


    4

    電熱偶

    1

    omega


    5

    溫控表

    1

    歐姆龍


    6

    穩(wěn)壓電源

    1

    華測(cè)

    可定制

    7

    制冷水機(jī)

    1

    同飛

    制冷功率8KW

    8

    分子泵

    1

    萊寶

    CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa


    更多應(yīng)用:

    電子材料

    半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

    熱源薄膜形成

    激活離子注入后

    硅化物的形成

    陶瓷與無(wú)機(jī)材料

    陶瓷基板退火爐

    玻璃基板退火爐

    鋼鐵和金屬材料

    薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬

    爐焊接模擬

    高真空熱處理(1000°c以下)

    大氣氣體熔化過(guò)程

    壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

    復(fù)合材料

    耐熱性評(píng)價(jià)爐

    無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

    其他

    高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

    分段分區(qū)控制爐

    溫度梯度爐

    爐氣分析

    超導(dǎo)陶瓷退火爐





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