高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

產(chǎn)品型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：北京市

更新日期：2023-12-14

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

高真空退火爐

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹：

華測(cè)儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高的精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵眨?高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制操作！

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備原理：

• 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

• 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

• 反射光

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

設(shè)備特點(diǎn)

• 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

• 溫度高的精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

• 清潔加熱

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

• 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

更多應(yīng)用：樣品腔內(nèi)徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm

1、電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無(wú)機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

3、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000°c以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4、復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5、其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐